廢氣處理設備的種類

廢氣處理設備的種類分為（wéi）吸收設備（bèi）、吸附設備、催化燃燒設備（bèi）、等離子治理設（shè）備。下麵（miàn）源和小編針對廢氣處理設備的（de）種類為大家一（yī）一介紹。

吸收設備

吸收法采用低揮發或不（bú）揮發性溶劑對VOCs進行（háng）吸收，再利用VOCs和吸收劑物理性質的差異進行分離。

含VOCs的氣體自吸收（shōu）塔底部進入塔內，在上升過程中與來自塔頂的吸收劑逆流接觸，淨化後的氣體由塔頂（dǐng）排出。吸收了VOCs的吸（xī）收劑通過熱交換器後，進入汽提塔頂部，在溫（wēn）度高於吸收溫度或壓力低於吸收壓力的條件下解吸。解吸後的吸收劑（jì）經過溶劑冷凝器冷凝後回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣（qì）液（yè）分離器後以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適（shì）合於VOCs濃度較高、溫度較低的氣體淨化，其他情況下需要作相應的工藝調整。

吸附設備

在用多孔性固體物質處理流體混合物時，流體中的某（mǒu）一組分或某些組分可被吸表麵並（bìng）濃集其上，此現象稱為吸附。吸附處理廢氣時，吸附（fù）的對（duì）象是氣態汙（wū）染（rǎn）物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質，多孔固體物質稱為吸附劑。

固（gù）體表麵吸附了吸附質後，一部被吸附的（de）吸附質可從吸附劑表麵脫離，此（cǐ）現附。而當吸附進行一段時間後，由（yóu）於表（biǎo）麵吸附質的濃集，使其吸（xī）附能力明顯下降而吸附淨化的要求，此時需要采用一（yī）定的措施使吸附（fù）劑上已吸附的吸附質脫附，以協的吸附能力，這個過程稱為（wéi）吸附劑的再生。因此在實際吸（xī）附工程（chéng）中，正是利用吸附一再生一再吸附的循環（huán）過程，達到除去廢氣中汙染物質並回收廢氣中有（yǒu）用組（zǔ）分。

催化（huà）燃（rán）燒設備

燃（rán）燒法用於處理高（gāo）濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒，大多數生成（chéng）二氧化（huà）碳和水蒸氣，可以排放到（dào）大（dà）氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產物中HCl或SO2，需要對燃燒後氣體（tǐ）進一（yī）步處理。

等離子治（zhì）理設備

等離子體就是處於電離狀態的氣體，其英文名稱是plasma，它是由美國科學 muir，於1927年在研究低氣（qì）壓下汞蒸氣中放（fàng）電現象時命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發態原子、光子和自（zì）由基等（děng）組（zǔ）成，但電子和正離子的電荷數必須體表現出電中（zhōng）性，這就（jiù）是“等離子體”的含義。等離（lí）子（zǐ）體具有導（dǎo）電和受電磁影（yǐng）響的許多方麵與固（gù）體、液體（tǐ）和氣體不同，因此又有人把它稱為物質的第（dì）四種狀態。根據狀（zhuàng）態、溫度和（hé）離子密度，等離子體（tǐ）通常可以分為高溫等（děng）離子體和低溫等離子（zǐ）體（包子體（tǐ）和冷等離子體）。其中高（gāo）溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度（dù）幾乎相同係處於熱力（lì）學平衡狀態，它主要應用在受控熱核反應研究方麵。而低溫等離子體（tǐ）則學非平衡狀態，各種粒（lì）子溫度並不相（xiàng）同。其中電（diàn）子（zǐ）溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上（shàng），而其離子和中性粒子（zǐ）的溫度卻（què）可低到300～500K。一般氣體放（fàng）電子體屬於低溫等離子（zǐ）體。

截至2013年，對低（dī）溫等離子體的作用機（jī）理研究認為是粒子非彈性碰撞（zhuàng）的結（jié）果（guǒ）。低溫等離富含電子、離（lí）子、自由基和激發態分子，其中高能電子與氣體分子（原子）發生撞，將能量轉換成（chéng）基態分子（原子）的內（nèi）能，發生激發、離解和電離等一（yī）係列過秸（jiē）處（chù）於活化狀態。一方麵（miàn）打開了氣體分子鍵，生成一些單（dān）分子和固體微粒；另一力生（shēng）．OH、H2O2．等（děng）自由基和（hé）氧化性（xìng）極強的O3，在這一過程中高能電子起決定性作用，離子（zǐ）的熱運動隻有（yǒu）副作用。常壓（yā）下（xià），氣體放電產生的高度非平衡（héng）等離子（zǐ）體（tǐ）中電子溫層氏（shì）度）遠高於氣體溫度（室溫100℃左（zuǒ）右）。在非平衡等離子體中可能發（fā）生各種類型（xíng）的化（huà）學反應，主要決定於電子的平均能量、電子密度、氣體溫度、有害氣體分子濃度和≥氣體成分。這為一些需要很大（dà）活化能的反應如大氣（qì）中難降解汙染物的去除提供了另外也可以對低濃度、高流速、大風量的含揮發（fā）性有（yǒu）機汙染物和含硫類汙染物（wù）等進行處理。

常見的產生等離子體的方法是氣體放電，所謂氣體放電是指通過某（mǒu）種（zhǒng）機（jī）製使一電子從氣體原子或分子中電離出來，形成的氣體媒質稱為電離氣體，如果電離（lí）氣由外電場產生並（bìng）形成傳導電流，這種現象（xiàng）稱為氣體放電。根據放（fàng）電產生的機（jī）理、氣體的壓j源性質以及電（diàn）極的幾何形（xíng）狀、氣體放電等離子體主要分（fèn）為以下幾種形式：①輝光放電；③介質阻擋放電；④射頻放電；⑤微（wēi）波放電。無論（lùn）哪一種形式產生的等離子體，都需要高壓放電。容易打火產生危險。由於對（duì）諸如氣態汙染物（wù）的治理，一般要求在常壓下進行（háng）。

光催化和生物淨化（huà）設備

光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下（xià）將水、空氣和土壤中有機（jī）汙染（rǎn）物（wù）完全氧化成無毒無害的產物，而傳統的高溫焚燒技術則需要（yào）在極高的溫度下才可將汙染物摧毀，即使用常規的催化、氧化方法亦需要幾百度的（de）高（gāo）溫。

從理（lǐ）論上講（jiǎng），隻要半導體吸收的光能不小於其帶隙能，就足（zú）以激發產生電子（zǐ）和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常（cháng）見的單（dān）一化合（hé）物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物（wù），如（rú） Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反（fǎn）應有突出優點（diǎn），具體（tǐ）研究中可根（gēn）據需要選用，如CdS半導（dǎo）體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但（dàn）它容易發生光腐蝕，使用壽命有（yǒu）限。相（xiàng）對而言，Ti02的綜合（hé）性（xìng）能較好，是最廣泛使（shǐ）用和研究的單一化合物光催化劑。

通過源和小編的介紹，您是否對廢氣（qì）處理設備的種類有了更詳細的了解了呢，希望能幫助您更好的來（lái）選擇。如想了解更多的產品知識，歡迎您關注本（běn）站；如您的企業遇到廢氣排放（fàng）問題，隨時歡迎您來電（diàn）谘詢（xún），同時也歡迎（yíng）您來我（wǒ）們源和環保公（gōng）司參觀交流，一定會給到（dào）您滿意的處理方案，技術電話：17306171723。

昆山源和環保科技有限公司是一家致力於環保工程規劃、環保設備設計、設備製造、工程施工、售後服務於一體的專業化環保公司。創始人20年專注工業廢氣（qì）處理行業，具有豐富的工程實踐（jiàn）經（jīng）驗，積累了強大的技術實力。從客戶谘詢（xún）到現場勘查、評估、規劃設計、產品製作、現場安裝、售後服務都建立了（le）一套行之有效的管理體製。根據廢氣汙染物的性質和排放特點選擇不同的處理技術，為您專屬設計方（fāng）案並規劃圖紙和清單，做到了一廠一方案，隻（zhī）為能（néng）夠幫助企業解決廢氣處理難題。

本文由源和環保小（xiǎo）編整理編輯，轉載請注明出處。