半導體行業VOCs廢氣處理解決方案（àn）

源和（hé）小編今天為大家分享半導體行業VOCs廢氣處理的解決方案。

半導體行業中使用的清洗（xǐ）劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液（yè）等溶劑中含有大量有機物成分。 在工藝過程中，這些有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放。

     目前（qián），針對這種氣體排放，一 般采用吸附、焚燒或兩者相結（jié）合的處理（lǐ）方法。 吸（xī）附是利用多孔性固體吸附劑處理混合氣體，使其中所含的一種或多種組分吸附於固體 表（biǎo）麵上，達到分離的（de）目的。吸附劑選（xuǎn）擇性高，能分開其他過程難以分開的混合物，有效地清 除（或回收（shōu））濃度很低的有害物質，淨（jìng）化效率高，設備簡單，操作方便，且能實現自動控製。

但固體吸附劑的（de）吸附容量小，需要大量的吸附劑，設（shè）備龐（páng）大（dà），且吸附後吸附劑需（xū）要再生處（chù）理，是吸附處理的主要缺（quē）點。半導體生產場所揮發出來的有（yǒu）機廢氣（qì）通過局部排風罩收集，經管道（dào）送至吸附淨化係統。一（yī）般采用活性（xìng）炭作為吸附劑。因為活性炭是非極性吸附劑，對廢氣中水（shuǐ）蒸氣的靈敏度不高，且價格便宜。 焚燒的方（fāng）法也廣泛（fàn）用於半導體行業的各種有機廢氣處理，通過熱氧化將有機物轉化為 CO2 和水。同時，焚燒（shāo）對處理穩定流量和濃度的廢氣也是一種很好的方法。在熱氧化中，有機廢（fèi）氣流經過加熱，氣相中的有機物被氧化。為節省燃料使用，通常還使（shǐ）用熱交換器，回（huí）收焚燒產生的熱量對進口氣體進行預熱。對於處理大流量、低濃度的氣體，通常都要采用這種方法（fǎ）。 由於半導體行業廢氣焚燒（shāo）會產生SiO2，且SiO2會使催化劑鈍化，因此半導體行業中很少采用（yòng）接觸氧化的（de）方法。

一些半導體（tǐ）生產廠也使用旋轉濃縮係（xì）統富（fù）集有機廢氣，如沸石濃縮轉輪（lún）。因為半導體工藝（yì）過（guò）程中有機廢氣具（jù）有排放流（liú）量大（通（tōng）常（cháng）大於 11039 m3 /小時）和濃度低（通常小於 25ppmv） 的特點，使用其（qí）它的（de）處理技術難以（yǐ）達到令（lìng）人滿意（yì）的處理效率。沸石（shí）濃縮轉輪使（shǐ）用內帶吸收物質的旋轉（zhuǎn）輪，其中的吸收物質部分（fèn）曝露於廢（fèi）氣流中。轉輪吸收廢氣中的揮發性汙染物，並使（shǐ）用蒸汽或（huò）熱將其脫附。脫附的氣流中富集了（le）較高濃度的揮發物，這種低流量、高濃度的氣流能很好（hǎo）地被氧化。旋轉濃縮係統用於半導（dǎo）體行業的一個缺點是它對甲醇（chún）親和力較差，去除率僅為 40-60％。

     總而言之，廢氣處理方麵，半導體行業酸、堿廢氣一般采用相應的堿液吸（xī）收和酸液吸收進行處理， 工藝方法（fǎ）已非常成熟，隻要適當（dāng）優化相關工藝參數，能夠滿足本標準的要求，需要關（guān）注的有 機廢（fèi）氣的處理。目前處理有機廢氣的工（gōng）藝有吸附法、吸收法、直接（jiē）燃（rán）燒法（fǎ）、催化燃燒法、冷凝法（fǎ）等，吸附法采（cǎi）用活性炭直（zhí）接吸附，淨化效果好，但是（shì）運營成本會很高；吸收法適合於溫（wēn）度低、中高濃度的廢氣；直接燃燒法適合於高濃度、小風量廢氣治理；冷凝法適（shì）用於成分相 對單一、濃度高、且有一定回收價值的有機廢氣。對於半導體行（háng）業低濃度、大風量（liàng）、成分複雜的有機廢氣，吸附法、吸收法、燃燒法、冷凝法均不適用，比較（jiào）適用的是吸附——催化燃燒法。目前省內一些大型半導體企業已采用沸石轉輪濃縮（suō）後（hòu）燃燒（shāo），該方法（fǎ）適用於大風量、低濃度、常溫的有機廢氣（qì）處理（lǐ），淨化（huà）效率達到90％以上，濃縮比達20﹕1，運行費用較低，設備處理風量大，占地（dì）麵積小（xiǎo），不產生二次汙染，可持續脫附並處理汙染物。根據企業實際運 行情況（kuàng），有機廢氣進氣（qì）濃度在200mg/m3以上時，處理效率達到95%；200mg/m3以（yǐ）下（xià）時處理 後濃度控製（zhì）在20mg/m3，可保證廢氣達標排放。

通過小編以上的介紹，您是否對半導體行業VOCs處理有了更深（shēn）入的認（rèn）識了呢，希望能幫助到您。如您想了解更多的廢氣處（chù）理相關知識，歡迎您關注源和環（huán）保。

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